二手真空鍍膜機(jī)二手真空鍍膜機(jī)二手真空鍍膜機(jī)出售鍍膜機(jī)

二手二手真空鍍膜機(jī) 二手真空鍍膜機(jī)二手真空鍍膜機(jī)出售 磁控濺射鍍膜機(jī)
多種產(chǎn)中可供應(yīng)：二手鍍膜機(jī)-真空鍍膜機(jī)-光學(xué)鍍膜機(jī)-蒸發(fā)鍍膜機(jī)設(shè)備-車(chē)載片后視鏡鍍膜機(jī)-租賃

韓國(guó)2050光學(xué)機(jī)配置表
機(jī)械泵 英國(guó)愛(ài)德華275
羅茨泵 英國(guó)愛(ài)德華EH2600
擴(kuò)散泵 單擴(kuò)散泵
膜厚儀 美國(guó)英福康IC-5
電子槍 日本原裝JEOL單槍)
離子源 無(wú)韓國(guó)霍爾源
深冷 韓國(guó)
阻蒸 無(wú)

德國(guó)萊寶APS1104
尺寸型號(hào)： 1100MM
離子源 1個(gè)（APS)
電子槍 2把
泵 機(jī)械泵，
擴(kuò)散泵 美國(guó)POLYCOLD
阻蒸 無(wú)
韓一HVC-1600DA

MODEL HVC-1600DA
EB（電子槍?zhuān)?1GUN，，韓一 12穴
離子源
韓一，（霍爾）
機(jī)械泵 愛(ài)德華EM275
羅茨泵 愛(ài)德華EM2600
深冷 韓國(guó)V-PLUS1000H
晶控 XTC/3S + 單探頭
加熱方式 下加熱鹵燈
阻蒸 無(wú)
SIT-2050AF鍍膜機(jī)配置清單

德國(guó)萊寶SV630B(F)：機(jī)械泵一個(gè)
德國(guó)萊寶WHU4400：羅茨泵一個(gè)
英福康真空計(jì)：1個(gè)
離子轟擊：1套
中頻電源：1個(gè)
進(jìn)口擴(kuò)散泵：2個(gè)
主控制電柜：一套
平面靶座：2塊 一套
8面工件架：一套
6面工件架：一臺(tái)
進(jìn)口深冷泵：1套
聯(lián)合UNIVAC-2050 ? ? ? ?
? ? ? ? ?
1，2050機(jī)腔
2，韓國(guó)電子槍單槍 12穴
3，307真空計(jì)
4，配三星POLYCOLD深冷
5，下熱絲（下加熱燈管）
6，機(jī)械泵275+愛(ài)德華2600羅茨泵
7，一直生產(chǎn)IR CUT ,DVD，三菱鏡
8， 離子源
9，IC5晶控儀+單晶控探頭
10，無(wú)阻蒸
龍翩 1800 ? ? ? ?
? ? ? ? ?
配置清單：
1，1800機(jī)腔
2，日本電子雙槍
3，普發(fā)真空計(jì)
4，深冷，美國(guó)POLYCOOL 1102
5，上加熱絲
6，日本丸山真空機(jī)械泵+愛(ài)德華2600羅茨泵
7，無(wú)阻蒸
8，臺(tái)灣光控：透射光控
龍翩 1650

配置清單：
1，日本電子槍PLASMATECH單槍20穴
2，普發(fā)真空計(jì)，美國(guó)深冷
3，美國(guó)深冷1臺(tái)美國(guó)POLYCOOL 1102
4，上加熱絲，有阻蒸
5，275機(jī)械泵+愛(ài)德華EH22600羅茨泵，雙擴(kuò)散泵
6，XTC-3晶控儀+6點(diǎn)晶控探頭
7，配置美國(guó)大口徑霍爾源，帶阻蒸
8，配備大型傘架和上傘車(chē)，裝載量大
9，一直生產(chǎn),DVD，三菱鏡，顏色膜，AR+AF ,PVC膜
光馳OTFC1300 ? ? ? ? ? ? ? ?
型號(hào) ? ? OTFC1300C
序列號(hào) ? ? S0019
雙槍 ? ? JST-10F-2GUN
坩堝點(diǎn)數(shù) ? ? 24點(diǎn)+28點(diǎn)
機(jī)械升壓泵 ? ? EH500
冷泵 ? ? 冷凍U20P*2臺(tái)
離子源（射頻離子源） ? 有
光學(xué)觀(guān)測(cè)（光控＆精控） 有
基板加熱heater ? 有
回轉(zhuǎn) 中心回轉(zhuǎn)
阻蒸 ? ? 無(wú)
光馳OTFC1300 ? ? ? ? ? ? ? ?
型號(hào) OTFC1300DB
圖片_26
序列號(hào) SO567
雙槍 JST-10F-2GUN
坩堝點(diǎn)數(shù)（環(huán)型）
旋轉(zhuǎn)泵 24穴
擴(kuò)散泵 22*2臺(tái)
冷凍泵 PolcoldPFC-670HC
離子源（射頻離子源） 無(wú)
光學(xué)觀(guān)測(cè)有無(wú)（光控＆精控） 有
基板加熱heater有無(wú) 有
回轉(zhuǎn) 中心回轉(zhuǎn)
阻蒸 無(wú)
SHOWA昭和SGC-1300R
腔體 1300

電子槍 雙槍日本電子（24穴+環(huán)型）
光控 反射光控
晶控 6探頭+6探頭
加熱 上加熱方式
擴(kuò)散泵 雙泵（SFD-22C)
機(jī)械泵 VS2401
羅茨泵 PRC-012AS
離子源 有
阻蒸 無(wú)
韓一 HVC-1200DA ? ? ? ? ? ? ? ?
24b3f54c82e392d5a63668ac1fccdfa
1，1200機(jī)腔
2，韓一電子槍 12穴
3，普發(fā)真空計(jì)
4，下加熱絲
5，275機(jī)械泵+愛(ài)德華1200羅茨泵
6，一直生產(chǎn)IR CUT ,DVD，三菱鏡
7，IC5晶控儀+單探頭
9，單擴(kuò)散泵
10，無(wú)阻蒸
臺(tái)灣龍翩機(jī)1400

配置表
機(jī)械泵 美國(guó)凱尼真空泵
羅茨泵 德國(guó)普發(fā)羅茨泵2000A
電子槍 日本PLASMATECH10KW 8點(diǎn)穴
深冷 美國(guó)POLYCOLD
離子源 美國(guó)KRI考夫曼離子源
加熱系統(tǒng) 上烘烤電加熱絲
氣體流量 三路美國(guó)布魯克斯流量計(jì)
晶控膜厚儀 美國(guó)英福康SQM-160單探頭
光控 透射光控 有阻蒸
騰勝1800磁控機(jī)

腔體 1800
雙開(kāi)門(mén)
雙靶 圓靶
擴(kuò)散泵 單擴(kuò)散K-800
冷凍機(jī) 有
真空計(jì) 國(guó)產(chǎn)復(fù)合真空計(jì)
南光1100 日本槍

腔體 1100MM
擴(kuò)散泵 雙泵
晶振 單探頭+MDC360
電子槍 雙槍?zhuān)ōh(huán)型+12點(diǎn)穴）
真空計(jì) 國(guó)產(chǎn)復(fù)合真空計(jì)
無(wú)阻蒸
南光1300 成都南光
詳細(xì)參數(shù)
品牌
光馳
型號(hào)
OTFC-1550
產(chǎn)品別名
真空鍍膜機(jī)
類(lèi)型
真空鍍
適用原料
ABS
電鍍位置
輪式噴鍍
鍍種
真空鍍膜
適用范圍
塑料
產(chǎn)地
其他
功率
>200W
是否進(jìn)口
是
加工定制
否
產(chǎn)品用途
塑料鍍膜
規(guī)格
真空室中1550X1800mm(H)
產(chǎn)品詳情
商品描述
在線(xiàn)出售光馳OTFC-1550真空鍍膜機(jī) 光學(xué)鍍膜機(jī) 玻璃鍍膜機(jī)

產(chǎn)品名:OTFC-1550DBI 型式:1500DBI

原裝高配OTFC-1550光馳機(jī)(年份:2015. 11

日本電子16P雙槍?zhuān)?3 寸光馳RF離子源

275機(jī)械泵+愛(ài)德華配套羅茨泵

HOM2R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀

XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器

1.產(chǎn)品參數(shù):

真空室中1550 X 1800mm(H)

工件架φ1400mm工件架轉(zhuǎn)速10rpm to 30rpm (可變)

光學(xué)膜厚控制HOM2- R-VIS350A

波長(zhǎng)范圍:350nm to 1100nm 光學(xué)膜厚監(jiān)控儀反射式/透射式

水晶式膜厚計(jì)XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器

蒸發(fā)源電子槍2套

離子源17cmRF 離子源

機(jī)械泵:排氣系統(tǒng)2個(gè)擴(kuò)散泵Polycold(或2 個(gè)冷凝泵)

2. 性能:達(dá)到壓力7.0X10-5Pa以下排氣時(shí)間20分 (大氣壓,1.3X10- 3Pa)基板溫度高:350
3. 設(shè)備尺寸:約5500mn(W) X 7200mm()X3700mm(H) 3相, 200v, 50/60Hz,
4. 電源約120KVA 水流量180 升/分以上 空氣壓力0. 5MPa以上
5. 重量約11000kg
1、中空負(fù)極等離子噴涂基本原理
在底端真空泵為高真空的情形下，氬氣瓶(1-10-2)從負(fù)極引進(jìn)，在負(fù)極與輔助陽(yáng)極中間提升引弧工作電壓，使氬氣瓶發(fā)亮充放電，在中空負(fù)極造成低電壓等離子充放電，負(fù)極溫度上升到2300-2400K從冷陰極充放電到熱陰極放電，逐漸熱電子發(fā)送，充放電到平衡狀態(tài)。進(jìn)到反映汽體，可做成結(jié)合膜。
二、測(cè)控技術(shù)磁控濺射原理
將真空系統(tǒng)預(yù)抽至10-3Pa，隨后進(jìn)到汽體(比如氬氣瓶)，標(biāo)準(zhǔn)氣壓為1-10Pa在這個(gè)過(guò)程中，向總體目標(biāo)加上負(fù)電壓以造成電弧放電。當(dāng)電子器件在電磁場(chǎng)的積極意義下加快奔向硅片時(shí)，它和氬分子相撞，并水解Ar和另一個(gè)電子器件；躍遷總體目標(biāo)原材料，越來(lái)越多二次電子電離，持續(xù)躍遷總體目標(biāo)原材料；電磁場(chǎng)根據(jù)磁場(chǎng)更改電子的運(yùn)動(dòng)方位，限制和增加電子的運(yùn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)軌跡，進(jìn)而提升價(jià)電子工作中氣體水解幾率。
三、多弧離子鍍工作原理
其原理是冷陰極配建電弧光放電，其物理基礎(chǔ)是當(dāng)場(chǎng)發(fā)送。當(dāng)電鍍材料傳送到負(fù)極，真空系統(tǒng)傳送到陽(yáng)極氧化，真空系統(tǒng)提取到高真空時(shí)，開(kāi)啟電級(jí)驅(qū)動(dòng)器并開(kāi)啟觸碰。這時(shí)，陰極和陽(yáng)極中間產(chǎn)生相對(duì)穩(wěn)定的電弧放電，負(fù)極表層充斥著迅速擺動(dòng)的負(fù)極點(diǎn)，一些正離子對(duì)陰極點(diǎn)躍遷使之變成點(diǎn)蒸發(fā)源，多弧離子鍍層以好幾個(gè)電孤蒸發(fā)源為基礎(chǔ)。
四、電阻器蒸發(fā)鍍膜機(jī)
薄膜材料被放置于揮發(fā)船中，放置于真空系統(tǒng)中。當(dāng)獲取到一定的真空泵時(shí)，薄膜材料根據(jù)電阻器開(kāi)展加溫，使之揮發(fā)。當(dāng)揮發(fā)分子的均值可玩性超過(guò)蒸發(fā)源到底材的線(xiàn)形規(guī)格時(shí)，原子和分子從蒸發(fā)源中逸出，抵達(dá)底材產(chǎn)生膜。為了能讓薄膜厚度勻稱(chēng)，可以用電機(jī)驅(qū)動(dòng)器底材轉(zhuǎn)動(dòng)，并用薄膜厚度計(jì)操縱薄膜厚度，設(shè)計(jì)出塑料薄膜。
五，E原理
負(fù)極鎢絲加熱發(fā)送0.3EV在鎢絲陰極和陽(yáng)極間的靜電場(chǎng)影響下，原始機(jī)械能的熱電子加快并匯聚成束。在磁鐵線(xiàn)圈的磁場(chǎng)中，離子束沿ExB電子能量根據(jù)負(fù)極偏移到10KV，根據(jù)陽(yáng)極氧化電子器件偏移270夾角陽(yáng)極氧化電子器件偏移270夾角，躍遷膜材使之揮發(fā)。
六，PVD鍍晶原理
將電鍍工藝零件放到低電壓光充放電的負(fù)極上，引進(jìn)適度氣體，在一定條件下，根據(jù)化學(xué)變化與直流濺射結(jié)合的全過(guò)程，在工件表面得到鍍層。