轉(zhuǎn)讓光馳OTFC1300真空鍍膜機(jī)

日本原裝光馳OTFC-1300MM帶涉頻源含安裝鍍膜機(jī) 光學(xué)機(jī)
1. 用途：此真空鍍膜機(jī)是鍍制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AF+AS膜）型光學(xué)鍍膜機(jī)，應(yīng)用于鍍膜機(jī)等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性，運(yùn)動(dòng)模式的膜均勻性好，鍍層的臺(tái)階覆蓋性能好，承載能力大，可充分利用有效空間的真空鍍膜室，是一個(gè)運(yùn)動(dòng)的常用模式。排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵，擴(kuò)散泵，管道和閥門(mén)組成。為了提高泵的流量，可以添加增壓器之間的機(jī)械泵和擴(kuò)散泵。因此，不僅在較短的時(shí)間內(nèi)低壓力以快速的工作循環(huán)的排氣系統(tǒng)，還需要確保氣體的蒸發(fā)源和蒸鍍工件表面產(chǎn)生快速的去除。蒸發(fā)系統(tǒng)包括電氣設(shè)備和加熱蒸發(fā)源蒸發(fā)源。電氣設(shè)備包括測(cè)量真空薄膜的厚度和控制
3.特征：磁密封驅(qū)動(dòng)的基板旋轉(zhuǎn)式可得到穩(wěn)定和均勻的膜厚分布
4.配備：配備RF離子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)；防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)。
5.性能：達(dá)到壓強(qiáng)7.0E-5Pa以下
6.配置參數(shù)：
型號(hào) OTFC1300C OTFC1300DB
序列號(hào) S0019 S0567
電子槍?zhuān)p槍?zhuān)?JST-10F-2GUN JST-10F-2GUN
坩堝點(diǎn)數(shù) 24點(diǎn)+28點(diǎn)
旋轉(zhuǎn)泵 VS2401
機(jī)械升壓泵 EH500
擴(kuò)散泵 冷凍U20P*2臺(tái) 22寸*2臺(tái)
冷凍機(jī) 無(wú) Polycold PFC-670HC
離子槍?zhuān)ㄉ漕l離子源） 有 無(wú)
光學(xué)觀測(cè)（光控&精控） 有 有
基板加熱 有 有
回轉(zhuǎn) 中心回轉(zhuǎn) 中心回轉(zhuǎn)