石英粉是用純石英（天然石英或熔融石英）經(jīng)破碎、揀選、清洗、酸處理、高溫熔化、中碎、細(xì)磨、分級(jí)、除鐵等多道工序加工而成的符合使用要求的粉體。石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式，各種常規(guī)規(guī)格：100M，150M，200M，325M，400M，600M，1500M及2000M(M為目數(shù))。另外也可按客戶要求加工異型規(guī)格，要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等級(jí)，只分規(guī)格。因其具備白度高，無雜質(zhì)、鐵量低等特點(diǎn)，故應(yīng)用范圍廣。

用途：制造玻璃，耐火材料(爐料），冶煉硅鐵，涂料，橡膠填料，冶金熔劑，陶瓷，研磨材料，金屬表面處理等方面，在建筑中利用其有很強(qiáng)的抗酸性介質(zhì)浸蝕能力，制取耐酸混凝土及耐酸砂漿。

石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式:
　　1、干法生產(chǎn)石英粉，主要設(shè)備有磕石機(jī)、粉碎機(jī)、振動(dòng)篩等。其工藝流程為石英石礦料經(jīng)過磕石機(jī)加工成較小石料，石料再經(jīng)過粉碎機(jī)加工砂粒，然后經(jīng)過振動(dòng)篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫(kù)。
　　2、水法生產(chǎn)石英粉，主要設(shè)備有磕石機(jī)、石碾、烤房、振動(dòng)篩、水路系統(tǒng)等。
　　其工藝流程大致如下：石英石礦料經(jīng)過磕石機(jī)加工成較小石料，石料再經(jīng)過石碾碾壓成砂粒，碾壓時(shí)不停的加水，水帶著砂粒流入沉淀池內(nèi)，再把沉淀池內(nèi)的砂粒運(yùn)入烤房烘烤成干砂粒，然后再經(jīng)過振動(dòng)篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫(kù)。

石英粉的用途：用于玻璃行業(yè)可制造各種平板玻璃、夾絲玻璃、壓花玻璃、空心玻璃、泡沫玻璃、玻璃磚、各類包裝瓶罐，玻璃器皿如：啤酒瓶、玻璃杯、保溫瓶及裝飾品，可以制造光學(xué)玻璃，玻璃儀器，玻璃纖維，導(dǎo)電玻璃，玻璃不及防射線特種玻璃。鑄造行業(yè)用于造型用沙。冶金行業(yè)可作冶煉添加劑，熔劑及各種硅鐵合金。耐火材料行業(yè)可作窯用高溫磚，普通磚及耐火材料等。水泥行業(yè)可作沙子水泥配料，加氣混凝土，普通制品等?；瘜W(xué)工業(yè)可制造水玻璃、硅膠、干燥劑，石油精煉催化劑。制造外墻涂料，馬路畫線漆等。

石英粉、石英砂、硅微粉的分類如下：
普通石英砂(粉)，精制石英砂，高純石英砂，熔融石英砂及硅微粉等等。

不規(guī)則狀石英粉用顯微鏡來看其實(shí)呈現(xiàn)多角型，是將石英粉直接研磨的結(jié)果；球狀石英粉是將不規(guī)則狀石英粉置于接近融點(diǎn)的高溫，讓原來存在不平整的邊邊角角融化，然后再降溫冷卻，就可以得到球狀石英粉。

硅微粉：在業(yè)內(nèi)人們將具有相應(yīng)純度的石英礦研磨所得的超細(xì)粉或通過化學(xué)所得的二氧化硅（如白炭黑）細(xì)粉都有稱硅微粉。

石英粉：以石英原礦通過不同的加工設(shè)備粉碎所獲得的粉體。

硅微粉是由天然石英（SiO2）或熔融石英（天然石英經(jīng)高溫熔融、冷卻后的非晶態(tài)SiO2）經(jīng)破碎、球磨（或振動(dòng)、氣流磨）、浮選、酸洗提純、高純水處理等多道工藝加工而成的微粉。
微硅粉的生產(chǎn)方法主要有：
，三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中，與通入的干燥氯化氫氣體在280～330℃有氯化亞銅催化劑存在下進(jìn)行氯化反應(yīng)，反應(yīng)氣體經(jīng)旋風(fēng)分離除去雜質(zhì)，再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體，經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝，除去高沸物和低沸物，再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝，得到精制三氯氫硅液體。純度達(dá)到7個(gè)“9”以上、雜質(zhì)含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內(nèi)，用超純氫氣作還原劑，在1050～1100℃還原成硅，并以硅芯棒為載體，沉積而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進(jìn)行重結(jié)晶，用酸除去雜質(zhì)，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導(dǎo)體用硅，還要將其轉(zhuǎn)化成易于提純的液體或氣體形式，再經(jīng)蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進(jìn)行進(jìn)一步的提純處理。
第三， 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA開式電弧爐，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。