半導(dǎo)體對超純水的電導(dǎo)性、離子含量、TOC、DO等指標(biāo)要求越來越高，這給半導(dǎo)體超純水制備行業(yè)帶來了很高的準(zhǔn)入門檻，但同時也為一些擁有核心自研技術(shù)的企業(yè)創(chuàng)造了發(fā)展機遇。不同行業(yè)對超純水的標(biāo)準(zhǔn)也不盡相同，而半導(dǎo)體行業(yè)則被視為“檔”。

除了半導(dǎo)體行業(yè)，其他行業(yè)對超純水的需求同樣重要。比如在電力行業(yè)中，鍋爐用水對超純水的要求特別嚴(yán)格，要求超過5MΩ·CM的電阻率，因為水質(zhì)不純會造成鍋爐結(jié)垢，消耗熱能，而且會導(dǎo)致鍋爐底部受熱不均甚至引起爆炸。在醫(yī)藥行業(yè)，超純水的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)更高，要求電阻率不低于15MΩ·CM，電導(dǎo)率不高于0.5μS，氨含量不超過0.3μg/ml，硝酸鹽不超過0.06μg/ml，重金屬不超過0.5μg/ml。而在鍍膜玻璃沖洗行業(yè)，鍍膜前必須使用高于17MΩ·CM的超純水進(jìn)行清洗，否則水質(zhì)不達(dá)標(biāo)會導(dǎo)致鍍膜效果差，膜層容易脫落。

制備超純水的工藝非常復(fù)雜和精細(xì)，一般超純水系統(tǒng)要經(jīng)過多重過濾、離子交換、除氣、逆滲透、紫外線、超濾、納米濾、離子吸附過濾等多個環(huán)節(jié)才能產(chǎn)生超純水。在制造過程中，采用的工藝技術(shù)必須***到位，不能有絲毫偏差。特別是對于半導(dǎo)體行業(yè)，超純水對電阻率的要求非常嚴(yán)格，理論上電阻率應(yīng)大于18.2MΩ?厘米，幾乎不含離子。然而，常規(guī)的單一工藝很難滿足這一要求，所以通常需要采用多種工藝的聯(lián)合使用，如樹脂+RO+EDI等。此外，不同地區(qū)的自來水中離子含量也有所不同，需要根據(jù)情況調(diào)整工藝組合，先去除顆粒物再進(jìn)行脫鹽處理。

除了了解工藝，生產(chǎn)滿足工藝指標(biāo)要求的超純水，保持系統(tǒng)的穩(wěn)定同樣對于芯片制造至關(guān)重要。這不僅與終端材料和規(guī)格的選擇、系統(tǒng)管路設(shè)計的優(yōu)化有關(guān)，同時也與超純水裝置的控制系統(tǒng)緊密相關(guān)。在這方面，高頻科技具有一定的優(yōu)勢。

隨著電子行業(yè)的快速發(fā)展和對超純水要求的日益嚴(yán)格，制備超純水的技術(shù)將會迎來更多的挑戰(zhàn)和機遇。只有不斷創(chuàng)新、提高工藝技術(shù)和裝置控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性，才能滿足電子行業(yè)對超純水的需求，為電子信息產(chǎn)業(yè)鏈的***——半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展提供堅實的基礎(chǔ)。

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