用途:制造玻璃,耐火材料(爐料),冶煉硅鐵,涂料,橡膠填料,冶金熔劑,陶瓷,研磨材料,金屬表面處理等方面,在建筑中利用其有很強的抗酸性介質(zhì)浸蝕能力,制取耐酸混凝土及耐酸砂漿。
石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式:
1、干法生產(chǎn)石英粉,主要設備有磕石機、粉碎機、振動篩等。其工藝流程為石英石礦料經(jīng)過磕石機加工成較小石料,石料再經(jīng)過粉碎機加工砂粒,然后經(jīng)過振動篩篩分,在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵,然后分裝完畢入庫。
2、水法生產(chǎn)石英粉,主要設備有磕石機、石碾、烤房、振動篩、水路系統(tǒng)等。
其工藝流程大致如下:石英石礦料經(jīng)過磕石機加工成較小石料,石料再經(jīng)過石碾碾壓成砂粒,碾壓時不停的加水,水帶著砂粒流入沉淀池內(nèi),再把沉淀池內(nèi)的砂粒運入烤房烘烤成干砂粒,然后再經(jīng)過振動篩篩分,在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵,然后分裝完畢入庫。
干法生產(chǎn)的石英粉分為普通石英粉、精制石英粉二種等級。因石英石礦料從山上開采下來的時候,本身帶有黃褐色的表皮。挑選出較小的石英石礦料直接破碎篩分的產(chǎn)品稱普通石英粉,表觀呈現(xiàn)黃褐色與白色相間,其優(yōu)點是價格便宜,缺點是雜質(zhì)較多,故多用于建筑行業(yè).挑選出大的礦料,經(jīng)過人工去除表面黃褐色外皮,再加工而成的就是精制石英粉了,其表觀呈現(xiàn)白色,亮晶晶,如同白砂糖一樣。因加工過程費時費料,故價位較高。
水法生產(chǎn)的石英粉分為普通石英粉和精制石英粉。把較小的石英石礦料加工成普通石英粉,把大的石英石礦料加工成精制石英粉。與干法石英粉相比,水法石英粉因在生產(chǎn)過程,較少產(chǎn)生設備鐵以及用水沖走雜質(zhì),如含鐵量及雜質(zhì)都少于干法石英粉,但因其加工較為費工費料,故價位較高。
石英粉不分等級,只分規(guī)格。因其具備白度高,無雜質(zhì)、鐵量低等特點,故應用范圍廣.
石英粉、石英砂、硅微粉的分類如下:
普通石英砂(粉),精制石英砂,高純石英砂,熔融石英砂及硅微粉等等。
超細石英粉可以達到3000目,國內(nèi)少數(shù)幾家生產(chǎn),此類產(chǎn)品應用基本都屬于精細化工,屬于戰(zhàn)略資源。石英粉具體介紹如下:
由高純石英粉經(jīng)的超細研磨工藝加工而成的產(chǎn)品我們一般稱之為硅微粉,也可稱為超細石英粉,是用途極為廣泛的無機非金屬材料.具有介電性能、熱膨脹系數(shù)低、導熱系數(shù)高、懸浮性能好等優(yōu)點.因其具有優(yōu)良的物理性能、的化學穩(wěn)定性、特的光學性質(zhì)及合理、可控的粒度分布。
硅微粉是一種、無味、的無機非金屬材料。由于它具備耐溫性好、耐酸堿腐蝕、導熱系數(shù)高、高絕緣、低膨脹、化學性能穩(wěn)定、硬度大等優(yōu)良的性能,被廣泛用于化工、電子、集成電路(IC)、電器、塑料、涂料、油漆、橡膠、等領(lǐng)域。隨著高技術(shù)領(lǐng)域的迅猛發(fā)展,硅微粉亦將步入新的歷史發(fā)展時期。
硅微粉是由天然石英(SiO2)或熔融石英(天然石英經(jīng)高溫熔融、冷卻后的非晶態(tài)SiO2)經(jīng)破碎、球磨(或振動、氣流磨)、浮選、酸洗提純、高純水處理等多道工藝加工而成的微粉。
微硅粉的細度:硅灰中細度小于1微米的占80%以上,平均粒徑在0.1~0.3微米,比表面積為:20~28m2/g。其細度和比表面積約為水泥的80~100倍,粉煤灰的50~70倍。石英粉常用規(guī)格為400目,800目,1000目,1500目及2000目。
微硅粉的生產(chǎn)方法主要有:
,三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中,與通入的干燥氯化氫氣體在280~330℃有氯化亞銅催化劑存在下進行氯化反應,反應氣體經(jīng)旋風分離除去雜質(zhì),再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體,經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝,除去高沸物和低沸物,再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝,得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個“9”以上、雜質(zhì)含量小于1×10-7,硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內(nèi),用超純氫氣作還原劑,在1050~1100℃還原成硅,并以硅芯棒為載體,沉積而得多晶硅成品。
第二,用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,加熱到1900℃左右進行還原。此方法制得的硅純度為97%~98%,被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進行重結(jié)晶,用酸除去雜質(zhì),得到純度為99.7%~99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅,還要將其轉(zhuǎn)化成易于提純的液體或氣體形式,再經(jīng)蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅,則需要進行進一步的提純處理。
第三, 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,用1000~3000kVA開式電弧爐,加熱到1900℃左右進行還原。